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國內PECVD鍍膜設備龍頭股票

發布時間:2021-08-10 13:55:58

❶ PECVD鍍膜機一般抽到多少真空度

一般抽到5*10-4充氮氣洗一遍再充氮氣洗一遍,一共洗兩遍,然後再用氫氣洗,之後就是成膜工藝氣體配比充。

❷ PECVD工作原理

PECVD--等離子體化學氣相沉積法

為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD).

實驗機理:

輝光放電等離子體中:電子密度高(109~1012/cm3)

電子氣溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍

雖環境溫度(100-300℃),但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解,離解和離化,從而大大提高了參與反應物的活性。

因此,這些具有高反應活性的中性物質很容易被吸附到較低溫度的基本表面上,發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。

優點:基本溫度低;沉積速率快;
成膜質量好,針孔少,不易龜裂。

缺點:1.設備投資大、成本高,對氣體的純度要求高;

2.塗層過程中產生的劇烈噪音、強光輻射、有害氣體、金屬蒸汽粉塵等對人體有害;

3.對小孔孔徑內表面難以塗層等。

❸ 管式pecvd,8英寸矽片鍍膜工藝問題

應該是葯液殘留造成的

❹ pecvd鍍膜管式爐口發紅有哪些原因

邊緣發紅,你可以吧恆溫時間加長試一下,謝謝

❺ 管式PECVD與平板式PECVD機器鍍膜的區別在哪裡

前者是在管子里,片子在石墨舟里作為電極鍍膜,可以叫做直接式,後者則在石墨框上,不作為電極,可以叫做間接式。前者採用射頻電源,後者則採用微波輝光。另外還有很多不同之處。

❻ 請問薄膜太陽能電池用的鍍膜(PECVD)設備是什麼

PECVD= Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
等離子體輔助化學氣相沉積

我們公司就是做這個的.

❼ PECVD怎麼實現鍍膜的

管P的工作原理:通過高頻發電使待反應的氣體(SIH4,NH3)在等離子狀態下劇烈反應,生成SIN膜在電池片的表面。
作用:增強電池片對太陽光線的吸收,減少反射從而一定程度上提高了電池片轉換效率。

❽ PECVD鍍膜設備多少錢

你這里所說的「不同」,是不是指管式和板式的差別呢?管式PECVD的工藝原理是通過低壓氣氛的射頻放電產生等離子體,輔助以加熱系統,從而在wafer表面沉積鍍膜;而板式PECVD則是通過石英管保護的銅管,將微波導入工藝腔室,從而加熱氣體等離子,最後實現在wafer表面沉積薄膜的目的。

❾ PECVD鍍膜舟為什麼要用石墨的而不用其他金屬

石墨的耐高溫且重量輕

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