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国内PECVD镀膜设备龙头股票

发布时间:2021-08-10 13:55:58

❶ PECVD镀膜机一般抽到多少真空度

一般抽到5*10-4充氮气洗一遍再充氮气洗一遍,一共洗两遍,然后再用氢气洗,之后就是成膜工艺气体配比充。

❷ PECVD工作原理

PECVD--等离子体化学气相沉积法

为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

实验机理:

辉光放电等离子体中:电子密度高(109~1012/cm3)

电子气温度比普通气体分子温度高出10-100倍

虽环境温度(100-300℃),但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解,离解和离化,从而大大提高了参与反应物的活性。

因此,这些具有高反应活性的中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

优点:基本温度低;沉积速率快;
成膜质量好,针孔少,不易龟裂。

缺点:1.设备投资大、成本高,对气体的纯度要求高;

2.涂层过程中产生的剧烈噪音、强光辐射、有害气体、金属蒸汽粉尘等对人体有害;

3.对小孔孔径内表面难以涂层等。

❸ 管式pecvd,8英寸硅片镀膜工艺问题

应该是药液残留造成的

❹ pecvd镀膜管式炉口发红有哪些原因

边缘发红,你可以吧恒温时间加长试一下,谢谢

❺ 管式PECVD与平板式PECVD机器镀膜的区别在哪里

前者是在管子里,片子在石墨舟里作为电极镀膜,可以叫做直接式,后者则在石墨框上,不作为电极,可以叫做间接式。前者采用射频电源,后者则采用微波辉光。另外还有很多不同之处。

❻ 请问薄膜太阳能电池用的镀膜(PECVD)设备是什么

PECVD= Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
等离子体辅助化学气相沉积

我们公司就是做这个的.

❼ PECVD怎么实现镀膜的

管P的工作原理:通过高频发电使待反应的气体(SIH4,NH3)在等离子状态下剧烈反应,生成SIN膜在电池片的表面。
作用:增强电池片对太阳光线的吸收,减少反射从而一定程度上提高了电池片转换效率。

❽ PECVD镀膜设备多少钱

你这里所说的“不同”,是不是指管式和板式的差别呢?管式PECVD的工艺原理是通过低压气氛的射频放电产生等离子体,辅助以加热系统,从而在wafer表面沉积镀膜;而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管,将微波导入工艺腔室,从而加热气体等离子,最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的。

❾ PECVD镀膜舟为什么要用石墨的而不用其他金属

石墨的耐高温且重量轻

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