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光掩膜龙头股票

发布时间:2021-08-11 08:16:12

⑴ 光掩膜和菲林是同一个东西吗

有点间接关系,但不是同一个东西。

⑵ OLED项目概念股有哪些

⑶ 请问半导体行业的MASK就是光掩膜吗

光掩膜(mask)资料:
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。
光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下,通常讲的菲林即film,底片或胶片的意思,感光为微小晶体颗粒)。
在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复制过来。
以下是具体的制造流程和检测流程:

1,数据转换 将如GDSII版图格式分层,运算,格式转换为设备所知的数据形式。(这一部分会产一些具体的描述)

2,图形产生 通过电子束或激光进行图形曝光。

3,光阻显影 曝光多余图形,以便进行蚀刻。

4,铬层刻蚀 对铬层进行刻蚀,保留图形。

5,去除光阻 去除多余光刻胶。

6,尺寸测量 测量关键尺寸和检测图形定位。

7,初始清洗 清洗并检测作为准备。

8,缺陷检测 检测针孔或残余未蚀刻尽的图形

9,缺陷补偿 对缺陷进行修补。

10,再次清洗 清洗为加蒙版作准备

11,加附蒙版 蒙版(pellicle)加在主体之上,这防止灰尘的吸附及伤害。

12,最后检查 对光掩膜作最后检测工作,以确保光罩的正确。
光掩膜的基本检查大体有:基板,名称,版别,图形,排列,膜层关系,伤痕,图形边缘,微小尺寸, 绝对尺寸,缺欠检查等。

对于数据处理主要来自于工艺上的要求,在图形处理上有:

1,直接对应 光掩膜直接对应到版图的一层,如金属层。

2,逻辑运算 光刻图形可能由1层或多层版图层逻辑运算而来。比如定义pplus与nplus互补,如果只有pplus,nplus将由pplus进行逻辑非的运算得来。在实际处理中以反转的形式实现。不过值得注意的是,在进行某些逻辑运算时,图层的顺序十分重要。与反转运算结合进,运算的先后顺序也很重要。

3,图形涨缩 即进行size操作,比如gate处的注入层,从gate size放大而来。
完整的光掩膜图形中,除了对应电路的图形外,还包括一些辅助图形或测试图形,常见的有:游标,光刻对准图形,曝光量控制图形,测试键图形,光学对准目标图形,划片槽图形,和其他名称,版别等LOGO。

⑷ 光掩膜 是什么

光掩膜
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。

⑸ 集成电路行业中所说的“掩膜”是什么意思啊

集成电路行业中所说的“掩膜”是光掩膜

光掩膜(mask)资料:
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。
光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶,硬度小且易吸附灰尘,不过干版还有包膜和超微颗粒干版,其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下,通常讲的菲林即film,底片或胶片的意思,感光为微小晶体颗粒)。
在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复制过来。

⑹ 十年后哪家公司会成为中国芯片制造业的龙头

我们先说华为,华为海思,从2004年到2019年,15年历史,从无到有,如今的麒麟980处理器,不仅仅手机芯片实力可以接近高通和苹果,更在基带上能够不断发挥,成为芯片领域的异军突起。海思半导体,它的步伐从没有止步在手机芯片,它进军服务器芯片。

在服务器芯片,英特尔的X86框架的挑战者寥寥无几,华为虽然宣称只是在自己服务器中使用鲲鹏920,但我们并不能忽视华为的野望,鲲鹏920处理器,泰山服务器以及华为云的组合,形成了行之有效的一套体系。华为的目标从简单的手机芯片技术到服务器芯片,它下了一盘大棋,华为每年在芯片市场的投资不低,而华为的实力和资本优势给华为的处理器发展更提供了厚实的基础。

芯片

⑺ 光掩膜的介绍

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。

⑻ 光掩模和光掩膜是一样的吗

不一样,前者是一种工艺过程,后者是一种实现工艺的材料。

⑼ 光掩膜的海关编码及税率是多少

商品归类要看这光掩膜的制造材料而定了。报关品名建议定为:掩膜,编码为:37019920,一般贸易进口的话要缴纳关税,最惠国税率10%,普通税率40%,增值税17%。
仅供参考

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